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基體溫度對磁控濺射TiN薄膜電化學(xué)性能的影響

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采用直流反應(yīng)磁控濺射方法在AISI304不銹鋼和Si(100)表面沉積了TiN薄膜,利用場發(fā)射掃描電鏡、X射線衍射儀和電化學(xué)技術(shù)研究了基體溫度對TiN薄膜結(jié)構(gòu)與電化學(xué)性能的影響。

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